Product Introduction
全部
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SiC CVD SystemSiC CVD System本工艺系统通过高温CVD工艺，实现SiC材料的稳定沉积与生长。
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Other ChambersRoll to Roll Chamber用于薄膜及柔性材料连续涂布和沉积工艺的Roll-to-Roll真空腔体。
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Other ChambersAF Coater Chamber用于在基板表面均匀形成功能性薄膜的涂布工艺腔体。
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Other ChambersCompact Chamber采用紧凑型设计，可在有限的安装空间内实现高效真空工艺的腔体。
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Other ChambersSVR Chamber根据客户的工艺条件及要求规格进行定制设计和制造的真空腔体。
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OLED Chambers10.5G 11th Buffer Chamber-35ToN用于OLED制造工艺中基板的稳定暂存、保管及传送的真空缓冲腔体。
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OLED ChambersTM Chamber用于在真空环境下将基板精确传送至各工艺腔体的传送模块腔体。
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OLED ChambersCVD Chamber为稳定进行薄膜沉积CVD工艺而设计的真空工艺腔体。
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OLED ChambersLL Chamber用于在大气环境与真空工艺区域之间进行基板装载和卸载的装载锁定腔体。
