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OLED Chambers
10.5G 11th Buffer Chamber-35ToN
用于OLED制造工艺中基板的稳定暂存、保管及传送的真空缓冲腔体。
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TM Chamber
用于在真空环境下将基板精确传送至各工艺腔体的传送模块腔体。
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CVD Chamber
为稳定进行薄膜沉积CVD工艺而设计的真空工艺腔体。
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LL Chamber
用于在大气环境与真空工艺区域之间进行基板装载和卸载的装载锁定腔体。
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PI Oven Chamber
用于OLED制造工艺中PI材料热处理及固化工艺的烘箱腔体。
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Transfer Chamber
在保持真空状态的同时,将基板稳定传送至各工艺区域的腔体。
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Inline Chamber
用于连续生产工艺中,实现基板顺畅传送及各工序衔接的在线式腔体。
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Backing Chamber
用于支持OLED制造工艺中的基板处理及背面工艺的真空腔体。
OLED Chambers
Panel Transfer System
用于在各工艺之间安全、精确传送大型显示面板的自动化系统。
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