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設計から設置まで
精密さが創り出す半導体の未来

精密真空チャンバー技術で、
お客様の工程を完成へ。

工程の要求を設計に込め、
装置で実現します。

PRODUCTS

FTLの製品技術をご覧ください。

SiC CVD System

高温CVDプロセスにより、SiC材料の安定した成膜・成長を実現するプロセスシステムです。

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SiC CVD System

Roll to Roll Chamber

フィルムおよびフレキシブル材料の連続コーティング・成膜工程に対応するRoll-to-Roll方式の真空チャンバーです。

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Roll to Roll Chamber

10.5G 11th Buffer Chamber-35ToN

OLED製造工程において、基板を安定して待機・保管・搬送するための真空バッファーチャンバーです。

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10.5G 11th Buffer Chamber-35ToN

TM Chamber

真空環境下で基板を各プロセスチャンバーへ高精度に搬送するためのトランスファーモジュールチャンバーです。

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TM Chamber

CVD Chamber

薄膜形成のためのCVDプロセスを安定して行えるよう設計された真空プロセスチャンバーです。

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CVD Chamber

LL Chamber

大気環境と真空プロセス領域の間で基板の搬入・搬出を行うロードロックチャンバーです。

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LL Chamber

PI Oven Chamber

OLED製造工程において、PI材料の熱処理および硬化工程を行うオーブンチャンバーです。

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PI Oven Chamber

Transfer Chamber

真空状態を維持しながら、基板を各プロセス領域へ安定して搬送するためのチャンバーです。

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Transfer Chamber

Inline Chamber

連続生産工程における基板のスムーズな搬送とプロセス間の連携を支援するインラインチャンバーです。

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Inline Chamber

Backing Chamber

OLED製造工程における基板処理および裏面プロセスをサポートするために設計された真空チャンバーです。

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Backing Chamber

Panel Transfer System

大型ディスプレイパネルを各工程間で安全かつ高精度に搬送するための自動化システムです。

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Panel Transfer System

PLANT 1

第1工場へのアクセスをご案内します。

第1工場忠南天安市西北区稷山邑城津路405

FTL第1工場

PLANT 2

第2工場へのアクセスをご案内します。

第2工場忠南天安市西北区稷山邑陽堂栗金ギル91

FTL第2工場
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